Continuum and kinetic simulations of the neutral gas flow in an industrial physical vapor deposition reactor

Bobzin, Kirsten; Bagcivan, Nazlim; Theiß, Sebastian; Brugnara, Ricardo H.; Schäfer, Marcel Pascal; Brinkmann, Ralf Peter; Mussenbrock, Thomas; Trieschmann, Jan (Corresponding author)

Amsterdam : Elsevier, [u.a.] (2013)
Beitrag zu einem Tagungsband, Fachzeitschriftenartikel

In: Surface & coatings technology
Band: 237
Seite(n)/Artikel-Nr.: 176-181

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