Pulse synchronized substrate bias for the High Power Pulsed Magnetron Sputtering deposition of CrAlN
Bobzin, Kirsten; Brögelmann, Tobias; Kruppe, Nathan Christopher; Engels, Martin Gottfried; Schulze, Christoph Franz Robert (Corresponding author)
Amsterdam [u.a.] : Elsevier (2021)
Fachzeitschriftenartikel
In: Thin solid films
Band: 732
Seite(n)/Artikel-Nr.: 138792
Einrichtungen
- Lehrstuhl für Oberflächentechnik im Maschinenbau [419010]
Identifikationsnummern
- DOI: 10.1016/j.tsf.2021.138792
- RWTH PUBLICATIONS: RWTH-2021-07145