Person

Christoph Schulze

M. Sc.

Assistent

Portraitfoto Schulze Urheberrecht: © Carl Brunn
Lehrstuhl und Institut für Oberflächentechnik im Maschinenbau

Adresse

Gebäude: 3024

Raum: E 103

Kackertstr. 15

52072 Aachen

Kontakt

WorkPhone
Telefon: +49 241 80 99951
Fax Fax: +49 241 80 92941
 

Kurzprofil

  • 10/2011 - 04/2017 Bachelorstudiengang Maschinenbau an der RWTH Aachen University
    Vertiefungsrichtung: Produktionstechnik
    Abschluss: Bachelor of Science
  • 04/2017 - 09/2018 Masterstudiengang Produktionstechnik an der RWTH Aachen University
    Vertiefungsrichtung: Oberflächen- und Fügetechnik
    Abschluss: Master of Science
  • Seit 10/2018 Wissenschaftlicher Mitarbeiter am Institut für Oberflächentechnik in der Fakultät für Maschinenwesen der RWTH Aachen University

 

Publikationen

Quelle Autor(en)
[Fachzeitschriftenartikel]
From cathode to substrate : Plasma diagnostics on high power pulsed magnetron sputtering deposition of titanium nitride
In: Thin solid films, 755, 139331, 2022
[DOI: 10.1016/j.tsf.2022.139331]
Bobzin, Kirsten
Kalscheuer, Christian
Carlet, Marco
Schulze, Christoph Franz Robert (Corresponding author)
[Fachzeitschriftenartikel]
Hybrid reactive sputtering of transition metal aluminum oxynitrides
In: Thin solid films, 742, 139028, 2021
[DOI: 10.1016/j.tsf.2021.139028]
Bobzin, Kirsten
Kalscheuer, Christian
Carlet, Marco (Corresponding author)
Schulze, Christoph Franz Robert
[Fachzeitschriftenartikel]
Schneller und günstiger zum Ziel
In: Magazin für Oberflächentechnik : mo, 76 (1/2), 32-35, 2022
Bobzin, Kirsten
Kalscheuer, Christian
Carlet, Marco
Schulze, Christoph Franz Robert
[Fachzeitschriftenartikel]
Influence of a short reverse positive HPPMS pulse on the deposition of CrAlN
In: Surface and coatings technology, 423, 127625, 2021
[DOI: 10.1016/j.surfcoat.2021.127625]
Bobzin, Kirsten
Brögelmann, Tobias
Kruppe, Nathan Christopher
Eichenhofer, G.
Schulze, Christoph Franz Robert (Corresponding author)
[Fachzeitschriftenartikel]
Pulse synchronized substrate bias for the High Power Pulsed Magnetron Sputtering deposition of CrAlN
In: Thin solid films, 732, 138792, 2021
[DOI: 10.1016/j.tsf.2021.138792]
Bobzin, Kirsten
Brögelmann, Tobias
Kruppe, Nathan Christopher
Engels, Martin Gottfried
Schulze, Christoph Franz Robert (Corresponding author)